半导体氧化层去除小妙招：真空等离子清洗机

随着工业化的进程不断加剧，智能化工厂未来逐步接近，各种材料的处理需求也越发复杂，在不同的设备不同的工艺中，产品需要不同的处理方式，等离子清洗机也在这种环境中登上舞台，被各种行业所接受，了解到这种处理的优势；比如在氧化层的处理上面，等离子清洗机就有独特的优势！

真空等离子清洗机

1、氧化层是什么？

金属遇空气表面生成一层致密的氧化物薄膜，以阻止金属与空气继续反应。

真空等离子清洗机

例如铝是一种活泼金属，容易发生氧化，生成一种致密的氧化膜，对铝具有保护作用，而有些金属氧化膜则不行，就像铁，因为它的氧化膜是疏松多孔的，对此类金属要实行防氧化措施。

2、为什么等离子清洗机可以去除氧化层呢？

清洗原理

上图就是去除基体表面的弱键以及典型-CH 基有机污染物和氧化物的原理。

我们可以看到清洗前的氧化层在放电反应中与氧原子结合，生产二氧化碳、一氧化碳、水分子等，通过真空泵抽气，将这些产物抽走，得到洁净的表面。

3、等离子清洗机在工艺中有什么独特的优势呢？

3-1 只对材料表面起作用而对内部无任何侵蚀，

3-2 反应的全过程无需溶解剂和水的参与，绿色环保

3-3 处理后产品质量好，得到的超高洁净表面让下道工序更好处理

3-4 健康安全的工艺流程，对操作人员没有伤害

水滴角

等离子清洗机的表面处理工艺凭借这些独特之处，从传统的处理方式中脱颖而出，成为各种各业的新欢，高效、均匀、一致性好处理结果让用户满意；清洗后不产生有害污染物也保护了环境与自然。如果你有产品表面处理的需求，可以了解下等离子清洗机哦！

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