光离子除臭

一、光离子除臭技术原理

光离子除臭设备是集UV光解技术与低温等离子体技术的优点于一体的恶臭气体治理设备，两种技术协同作用，达到更好的处理效果。

1、UV光解原理：

利用特制的高能高臭氧UV光束照射恶臭气体，裂解恶臭气体如：氨、*胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H₂S、VOCs类，苯、甲苯、二甲苯的分子键， 同时空气中的氧分子被分解成游离氧，即活性氧，因游离氧不稳定需与氧分子结合，产生臭氧。UV＋O₂→O-+O＊(活性氧) O＊+O₂→O₃(臭氧),臭氧对有机物具有*的氧化作用，再通过臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应，使呈游离状态的单分子被臭氧氧化结合成小分子无害或低害的化合物，如CO₂、H₂O等。

另外，高能UV紫外线光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧氧化，彻底达到脱臭及杀菌的目的。

2、低温等离子体原理：

通过外加电压，当达到气体的放电电压时，气体被击穿，产生各种高强度、高电能的活性物质，包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。由于UV光解对于一些能量较高分子键未能有效裂解，所以将UV光解区后未分解的恶臭气体分子与这些高能电子、自由基等活性粒子作用，使恶臭气体分子在极短的时间内发生分解，同时，在强电场作用下产生的臭氧具有*的氧化能力，使恶臭分子zui终被氧化分解成二氧化碳、水及其他低害物质。

光离子除臭设备是光氧化-等离子组合设备，是一种复合氧化设备，在外加UV光源的加强照射下，可促使等离子体产生的大量中性基团离子以及有害气体分子发生反应，即在等离子发射器及紫外光源发出等离子体和高能光子的共同作用下，设备内部发生等离子体裂解反应、UV紫外光解反应，臭氧氧化反应及协同氧化反应等复杂的过程，有效降解大分子有机物质，经过一系列复杂的氧化还原反应后zui终生成小分子化合物CO₂和H₂O。

二、设备优势

1、优势互补：集UV光解与低温等离子体技术于一体，先通过UV光解将大部分的分子化学键断裂，同时产生大量臭氧，使恶臭气体被氧化分解。恶臭气体中部分分子的化学键键能较高，导致UV光解未能分解。而低温等离子体技术对于低浓度恶臭气体有很好的处理效果，所以采用低温等离子体对未分解的分子进一部降解，将恶臭气体彻底氧化分解。

2、除臭：一次性净化效率高，能同时净化多种污染物，无需添加任何物质，二次污染。

3、适应性强：等离子体光解设备可适应高浓度，大气量，不同工业废气物质的脱臭、净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。

4、操作方便：模块化设计，便于取出检修和清理。

5、进口材料制造：防火、防腐蚀性能高，设备性能安全稳定，采用不锈钢材质，设备使用寿命在十五年以上。

三、适用范围：

离子除臭设备主要用于喷漆车间、油墨印刷、喷涂车间、化工、医药、橡胶、食品、印染、酿造、造纸、炼油厂、污水处理厂、垃圾转运站等产生的有毒有害恶臭气体治理。