半导体产生的废气该如何处理?

全国VOCs治理日益紧迫,各省份陆续发布挥发性有机物排放限值标准。如何有效地处理化工废气已经成为环保领域亟待解决的问题。随着新材料行业的发展,全国各地新材料行业的规模也日益扩大,新材料的发展对社会起了积极的作用,然而其对生态环境的破坏也是存在的,影响最大的是有机化合物或毒性物质。

半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分,在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs,同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物,分离和处理难度比较大。

RTO蓄热式氧化炉原理:

原理是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水,净化废气,并回收废气分解时所释放出来的热量,废气分解效率达到99%以上,热回收效率达到95%以上。RTO主体结构由燃烧室、陶瓷填料床和切换阀等组成。

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