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化学镀镍不同于电化学镀,其在不导电的情况下依靠不同化合物之间的氧化还原反应进行镀膜的生成,使镀层的均匀性及耐蚀性等方面显现出较突出的优越性,同时产生的废水也相对难处理,需采用专门的除镍剂

一般情况下,电镀废水中的镍离子可直与氢氧化物反应生成沉淀,而化学镍废水中由于使用了大量络合剂,使得镍离子被稳固在络合剂中,形成了络合镍,再加碱沉淀便失去了效果,无法处理达标。因此,对含化学镍生产线的多股废水需使用除镍剂进行分支分流单独处理,否则镍离子不能完全达标。

化学镍废水中的络合镍可以通过氧化破络释放镍离子进而沉淀,然而破络工艺成本较高、难度较大、效果较差,因此可采用有针对性的高效除镍剂HMC-M2进行去除,采用镍离子螯合反应沉淀原理,将络合形态的镍离子直接剥离后形成不溶性沉淀去除。

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