迪凯机电——高纯氩气净化回收技术，单晶硅、多晶硅制备设备

氩气在空气中含量极低（仅0.93%），通常作为副产物从空分制氧过程中分离提取，高纯氩气生产成本较高。高纯氩气（纯度>99.999%）是单晶硅和多晶硅制备过程中必不可少的净化和保护气。国外氩气净化回收技术昂贵，且产能规模有限。因此，研发具有自主知识产权的低成本、高产能氩气净化回收技术成为亟待解决的任务。

迪凯机电日前研发出高活性、高稳定性相关催化技术，根据规模化光伏单晶炉氩气净化回收工业需求，研发出成套工艺技术及装备。在较温和条件下，有效消除单晶炉氩气尾气中多种杂质，净化后氩气中各种杂质浓度低于0.5ppm，远优于光伏晶硅生产过程的PV6-1110氩气行业标准（杂质浓度<10ppm）。此技术在实际工况条件下能够同时满足至少4至6台单晶炉氩气尾气净化要求，大幅减少晶硅制造过程中高纯氩气的消耗量，帮助光伏企业克服氩气供给波动的影响。

该技术的成功研发，将进一步降低太阳能发电成本，为太阳能光伏行业带来可观的经济效益，有效提升我国光伏行业的核心竞争力。

氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气体，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。通过对本装置的使用，氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求，赢得客户的满意和市场的需求。

由于一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，使用氩气的客户不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。

一般氧含量小于0.5ppm，水分小于1ppm，这样稳定的氩气对生产晶体的质量是有保证的。

二、 关于氩气纯化的方法

第一种

直接脱氧法。就是使用活性金属与氩气中的氧气进行反应，消化掉氩气中的氧气，从而达到脱氧的目的，经过分子筛吸收掉氩气中的水份，使氩气的含水量小于1ppm。

第二种

是采用吸气剂。在一定温度下，吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后，氩气的纯度可达到6个九，这种保护气体更适用于制作高纯度的半导体的单晶硅。

利用吸气剂纯化后氩气的纯度：

O2≤0.2ppm

H2≤0.5ppm

N2≤1ppm

CO+CO2≤0.5ppm

CH4≤0.5ppm

水份≤1ppm

第一种方法设备投资小，设备中脱氧剂的使用寿命一般大于四年。

第二种方法设备纯化纯度高但投资相对较大，吸气剂使用寿命为两年。

★ ：迪凯机电也可根据客户要求，直接做高压的，这样就可省掉使用模压机增压工序。

还可根据客户要求，配备分析仪在线时时检测设备中气体纯度。

三、氩气用途

高纯氩气用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气。

主要用途：欢迎新老用户选择我公司产品：氩气净化机，氩气净化器，高纯氩气净化，高纯氩气净化设备，高纯氩气纯化设备，高纯氩气纯化装置，YAC系列氩气净化设备，全自动氩气纯化设备，大型氩气净化设备，硅材料行业用氩气净化设备，硅材料用除氧、除水氩气纯化装置,气站专用氩气净化设备，气站专用氩气纯化器，气站用高纯氩设备,单晶硅行业用氩气除氧、干燥设备，多晶硅行业用氩气除氧、干燥设备,高纯氩气提纯设备，氩气提纯机,高纯氩气过滤器。