半导体/光电光学行业高纯水设备工艺流程：
工艺一：原水箱(设有压力保护)→增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软化过滤器(根据地域及水源不同及选用)→保安过滤器→RO反渗透高压泵→RO反渗透系统→纯水箱→EDI增压泵→EDI电去离子主机→去离子水箱→去离子水泵→核能级抛光混床→终端精密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到18MΩ.cm以上0.055μs/㎝以下,25℃）
工艺二:
原水(设有压力保护)→增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软化过滤器(根据地域及水源不同及选用)→精密过滤器→中间水箱→一级RO高压泵→一级RO反渗透系统→RO水箱→二级RO高压泵→二级RO水箱→增压泵→EDI(CEDI)电去离子水主机→去离子水箱→去离子水泵→抛光混床→终端精密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到18MΩ.cm以上即0.055 μs/㎝以下,25℃)
声明：本站部分文章内容及图片转载于互联 、内容不代表本站观点，如有内容涉及侵权，请您立即联系本站处理，非常感谢！