无尘烘箱主要应用于半导体晶圆片光刻涂胶镀膜前的基片清洗后的前烘烤(Pre baking)、涂胶后的软烘焙Soft baking)，曝光、显影后的坚膜硬烘（Hard baking)等工艺，适用半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料的洁净、防氧化烘烤，亦可用于LCD、TFT、COMS、生物、医药、光学镀膜、精密元件干燥等生产工艺以及研发机构。
一、无尘烘箱人性化箱体结构
1)上下双腔结构,节省占地面积.
2)SUS304#镜面不锈钢内胆,SUS304#拉丝不锈钢板外壳,造型大方、新颖.
3)耐高温风机和合理风道构成热风循环系统,保证室内温度均匀性.
3)美国进口H.E.P.A Filter 24″×24″×5-7/8″装置往前门(特殊风道设计)方向送风，
过滤效率99.99%，Class 100
1）超温 警
2）欠相缺相保护
3）过电流保护
4）快速熔断器
5）接地保护等系统。该功能充分保护实验人员的安全。
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